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VNX50E-2膜堆产水流量为 50.0gpm / 11.4m3/h，是大水量 CEDI 系统的绝佳选择 。
进水要求水质<10us/cm(请详阅型录)
回收率高达98.5～99%。
2PASS RO 产水水质>17.5 megohm-cm
DI Water 产水水质> 18 megohm-cm
针对大流量CEDI系统设计的VNX膜堆，使系统设计施工上更加简易，相对的系统的造价成本也会明显的降低。
VNX运用于半导体,光电,电厂等需要大量去离子水的行业。
VNX作为一种清洁、对环境友好的技术，相对需要化学药剂再生的混床更有优势。
采用大流量的CEDI膜堆可以使系统的配管更少，系统设计施工更加简单。
产品特性如下：
Silica (SiO2) Removal ≥ 95%
Boron (B) Removal ≥ 95%
Sodium (Na) Removal 99.8%
Chloride (Cl) Removal 99.8%
• 不需要化学药剂再生
• 双O型止水环密封，保证不泄漏
• 无须注盐系统
• 可在100psi（7bar），113F(45C)环境下连续运行
• 全填充式专利设计
• 低的运行成本
